Cr注入氧化铜薄膜的椭圆偏振光谱建模

　　作者：

　　K·翁格胡尔,K.W.马萨莱克,米图拉-诺瓦克 & 雷多斯

　　摘要

　　在本文中，我们介绍了椭圆偏振光谱数据的建模。所测量的样品是用离子注入法改性的铜氧化物薄膜。使用反应磁控溅射制备样品。沉积CuO和Cu₄O₃薄膜，并以15keV的能量和5 × 5 × 10¹⁶个离子/cm²。通过X射线衍射测量来检查由于注入而导致的薄膜结晶度的降低。使用Ziegler和Biersack的Stopping and Range of ions in Matter软件模拟了Cr离子的注入。模拟15keV的离子束能量来估计Cr离子在铜氧化物薄膜中的分布。用椭圆偏振光谱法研究了薄膜的折射率、消光系数和吸收系数等光学参数。针对这两种氧化物，开发了基于Tauc–Lorentz振荡器的多层模型。光学性能分析表明，Cr离子注入降低了铜氧化物薄膜的吸收，模型证明顶层的材料性能变化最大。