长鑫存储取得掩模辅助图案设置方法及掩模版专利 通过设定光学临近修正的优先级

近日，国家知识产权局发布消息，长鑫存储技术有限公司成功取得一项重要专利，名为“掩模辅助图案设置方法及掩模版”，授权公告号CN110597011B，这标志着该公司在工艺优化领域迈出了关键一步。

专利技术概述

根据专利摘要显示，这项专利涉及一种创新的掩模辅助图案设置方法及掩模版，具备以下主要特点：

关键图案识别：在光刻掩模图案中，精准识别并标记出关键图案，这些关键图案对于工艺的成功实施至关重要。

辅助图案设置：将光刻掩模图案分割成多个区块，并根据关键图案的位置确定主要边界和次要边界。在这些边界的邻近区域内，设置辅助图案以提高工艺的精确性和稳定性。

优先级设置：通过设定光学临近修正的优先级，确保辅助图案的设置能够在关键区域得到优先实施，从而最大程度地提高关键图案的工艺窗口和转印准确性。