苹果公司申请光学测量系统中的去斑专利 使得测量过程更加高效、准确

苹果公司近日申请了一项引人注目的专利，“光学测量系统中的去斑”。这一技术创新将为光学测量领域带来重大突破。

专利摘要显示，该公开涉及在光学测量系统中使用多个发射器来发射光，并利用这些光学测量系统进行测量的方法。光学测量系统包括光产生组件和光子集成电路，其中光产生组件通过光源单元产生光，而光子集成电路则包括多个发射器，这些发射器光学地耦合到光产生组件以接收光，并从表面发射该光。

光学测量系统执行测量时，光产生组件产生光，并且每个发射器同时发射从光产生组件接收的光。这种并行测量的方式使得测量过程更加高效、准确。

通过利用多个发射器的光学耦合和并行测量的方式，该技术实现了光学测量系统中的去斑。这意味着系统可以更精确地测量目标，提高了测量结果的准确性和可靠性。

这一创新技术的问世将推动光学测量系统的发展，为各种领域的测量工作提供更加高效、精准的解决方案。在工业生产、科学研究等领域，去斑技术的应用将成为未来发展的关键。