在科技日新月异的今天，领先科技公司华为技术有限公司再次引领潮流，近日成功申请了一项名为“成像光学器件和成像设备”的专利。这一突破性技术被国家知识产权局公告，并正受到广泛关注。本文将对该专利进行深入解读，揭示其在光学领域的创新之处。
据国家知识产权局公告，这项专利名为“成像光学器件和成像设备”，公开号为CN117677882A，申请日期为2021年7月。该专利的公开标志着华为在光学领域的持续创新和突破。
专利摘要显示，这一专利揭示了一种光学器件总长度缩短的潜望式光学系统。其中，反射光学元件(P)在将光路从物体侧向图像侧弯曲90度，从而实现了光学系统的紧凑设计。
光学系统的后部透镜组(G_rear)在这一专利中表现得尤为出色。作为整体具有正屈光力，这一设计不仅简化了系统结构，还提高了成像设备的性能和可靠性。
反射光学元件(P)在物体侧的第一表面(S1)上具有凸曲率，而在图像侧的第三表面(S3)上具有凹曲率。这一设计使得光路的弯曲更为精准，为成像提供了更好的条件。
这项专利的突破之处在于其在潜望式光学系统中的创新设计，不仅实现了系统结构的紧凑化，还提高了成像的精准度和清晰度。这一创新将为未来的光学设备发展带来新的可能性，彰显了华为在科技领域的领先地位。
