激光网3月4日消息，为半导体设备行业投资新的生产工具 - 业纳正在为目前正在德累斯顿建设的高科技晶圆厂投资数百万美元的先进系统。
新的电子束光刻系统将用于为半导体和光通信领域的客户制造高精度微光学元件。制造商是位于耶拿的电子束技术专家 Vistec Electron Beam GmbH。该系统将于2025年初交付。
这种类型的电子束光刻系统可以在直径达 300 毫米的基板上以 10 纳米范围的精度“写入”结构。
Vistec SB3050-2电子束光刻系统基于所谓的可变光束原理，即使是大面积的电子束也可以非常精确和有效地构建。
Vistec SB3050-2 的高度自动化与可用基材的灵活性相结合，使其能够在工业环境中使用。该系统配备了细胞投影功能，为微光学应用开辟了更多的可能性。
业纳自2007年以来一直活跃在德累斯顿。随着德累斯顿机场公园的新高科技晶圆厂的建立，该公司正在巩固其生产，目前分布在几个小型外部站点，同时扩大其产能。新晶圆厂的洁净室生产面积将达到 2000 平方米，洁净室面积为 ISO 5 级和 3 级，并满足对无振动和温度稳定性的最高要求。
整个晶圆厂都考虑了高环境标准：业纳正在努力通过“KfW 40标准”和“LEED黄金标准认证”来满足目前最全面和最严格的建筑可持续性标准。同时，将创造高质量的工作岗位，现场员工人数将增加到120多人。因此，萨克森州首府将成为微光学行业的主要地点。
