国家知识产权局最新公告揭示，佛山纬达光电材料股份有限公司成功申请了一项引人注目的专利，名为“一种低成本的液晶补偿膜制备方法及偏光片和应用”，公开号为 CN117631120A，申请日期定格在2023年11月。
专利摘要显示，该发明涉及液晶光学膜制备技术领域，提出了一种低成本的液晶补偿膜制备方法，以及相应的偏光片应用。这一方法包括以下步骤：
摩擦取向： 在PET基膜或者TAC基膜上进行摩擦取向。
静电除尘： 摩擦取向后，通过非接触式的静电除尘装置进行除尘、除异物。
涂布液晶： 在取向的基膜膜面上涂布液晶，选择轻量化、跳动小的导辊。
固化处理： 涂布液晶后经加热挥发溶剂、UV固化步骤形成液晶膜。
创新的液晶膜性能参数为 nx>ny=nz，Re=(nx‑ny)×d，Rth=[(nx+ny)/2‑nz]×d，Nz=(nx‑ny)/(nx‑ny)。这一独特设计通过摩擦取向工艺替代光配向，实现了薄型化液晶补偿膜的制备，不仅省去了光配向设备和液晶的使用，而且成本降低了30-60%。
佛山纬达光电材料股份有限公司的这一低成本液晶补偿膜制备方法，不仅在技术上取得了巨大突破，更为整个行业带来了显著的成本优势。采用摩擦取向工艺代替传统光配向，降低了生产成本，为液晶光学膜制备领域带来了全新的技术和经济效益。
