在光学加工领域，福建福晶科技股份有限公司再次取得创新突破，成功研发了一项名为“一种表面超高损伤阈值的抛光加工装置及方法”的专利技术，为该公司在光学材料处理方面的技术实力赋予了新的活力。
根据国家知识产权局公告号为CN114789378B的信息，这一专利技术主要涉及一种表面超高损伤阈值的抛光加工装置及方法。以下是该技术的核心内容：
装置及方法
工件处理： 将玻璃工件粘结在粘结盘上，创新性地选用纳米级磁流变抛光液作为磨料悬浮液。
抛光容器设计： 在抛光容器主体中施加一定压力，形成玻璃工件与微孔结构抛光模之间的液膜。
运动驱动： 驱动粘结盘，使悬浮在抛光液中的玻璃工件旋转，同时利用垂直方向的磁场，使抛光液进行缓慢蠕动。
切向蠕动摩擦： 通过长时间的切向蠕动摩擦，去除光学亚表面损伤，实现高效抛光。
创新设计
机械与磁流变结合： 本发明巧妙地将传统机械抛光与磁流变抛光相结合，充分发挥两者的优势，提高了抛光效率。
抛光模创新： 抛光模采用微孔结构的聚氨酯或者绒布，并在其表面设计横线阵列槽，使抛光液在磁场的作用下能够沿磁场方向定向运动。
应用与优势
这一创新的抛光技术具有广泛的应用前景和显著的优势：
损伤阈值提升： 实现表面超高损伤阈值，提高了材料的耐损伤性能。
去除亚表面损伤： 长时间的切向蠕动摩擦抛光有效去除光学亚表面损伤，提升光学器件质量。
磁场引导抛光： 抛光模表面设计的横线阵列槽使得抛光液在磁场作用下有更为精准的定向运动。
