在光学技术领域取得的重大突破！烟台睿创微纳技术股份有限公司最新公告，成功获得了一项名为“一种减反射微结构及其制作方法”的专利。这项技术创新涉及光学器件窗口，将为光学领域带来更先进的减反射解决方案。
根据国家知识产权局的公告，该专利的授权公告号为CN115016048B，申请日期为2022年6月。这一专利的研发标志着烟台睿创微纳在光学领域的技术实力和创新能力。
这项专利公开了一种减反射微结构，其主要构成包括：
基底： 充当微结构的支撑底座。
微结构层： 位于基底上表面和/或下表面的微结构层，包括至少两层层叠设置的微结构阵列层。
微结构阵列层： 包括多个微结构，每层微结构阵列层中的微结构材料不同。
这项技术的创新之处在于微结构阵列层可以等效成具有渐变折射率梯度分布的薄膜，实现出色的减反射效果。此外，微结构阵列层的层数在两层以上，且不同微结构阵列层的材料不同，从而减少折射率的突变，降低发生菲涅尔反射的可能性，提升减反射微结构的减反射能力，实现更出色的增透效果。
专利中还提供了一种具有上述优点的减反射微结构制作方法，为实际应用提供了可行而高效的技术路径。
创新亮点
渐变折射率梯度分布： 微结构阵列层可等效成具有渐变折射率梯度分布的薄膜，实现出色的减反射效果。
多层次设计： 微结构阵列层的层数在两层以上，有效减少折射率的突变，提升减反射微结构的减反射能力。
材料差异设计： 不同微结构阵列层的材料不同，进一步降低菲涅尔反射的发生概率，确保更好的增透效果。
这一独特的减反射微结构设计将在光学器件窗口领域具有广泛的应用前景。其高效的减反射性能和制作方法的创新性将为光学行业带来新的可能性，提升设备性能，推动行业不断向前发展。
