奥普特申请大靶面高分辨率光学系统专利 提高光学成像技术的分辨率

近日，国家知识产权局发布公告，揭晓了广东奥普特科技股份有限公司的一项引人注目的专利申请，题为"一种大靶面高分辨率光学系统"，公开号为CN117590564A，申请日期为2023年12月。这一专利不仅在光学成像技术领域有着深远的影响，还将为科技领域带来全新的创新

在专利摘要中，显示了这一发明涉及光学成像技术领域，具体公开了一种大靶面高分辨率光学系统。该系统由物方到像依次设置具有正光焦度的调焦组T1和具有正光焦度的固定组T2。特别值得注意的是，光阑A0位于调焦组T1内部，而光学系统的焦距f和调焦组T1的焦距f等关键参数也被详细揭示。

创新亮点

1. 大靶面设计

奥普特科技的专利突出了大靶面高分辨率的设计，为光学成像领域注入了新的活力。该设计不仅拓展了传统光学系统的应用范围，而且在更广泛的场景下实现高分辨率成像。

2. 调焦组创新

专利中明确提到调焦组T1的正光焦度，这是一项在光学系统领域的创新。通过对焦点的灵活调整，用户可以在不同距离范围内实现高分辨率成像，满足多样化的应用需求。