在科技飞速发展的今天，浙江扬帆新材料股份有限公司迈出了创新的一步。根据国家知识产权局的公告，该公司成功申请了一项名为“一种高折射率双光子光刻胶组合物及其制备方法、应用”的专利，公开号为CN117590693A，而申请日期为2023年12月。这标志着在高分子化学材料技术领域，一种全新的高折射率双光子光刻胶正式问世。
这一专利公开了一种突破性的高折射率双光子光刻胶组合物，以及其制备方法和应用。在高分子化学材料技术领域，这是一项引人瞩目的创新。通过将双光子光引发剂、高折射率单体与活性单体巧妙混合，再融入混合光固化树脂、添加剂和阻聚剂的制备方法，成功解决了双光子光刻胶与直写系统折射率不匹配导致的焦斑质量降低的难题。这意味着光刻胶的折射率可调，从而有效提高了加工精度。
在制备方法上，本发明选择了引入高折射率单体，这一关键设计巧妙解决了传统技术中折射率不匹配的问题。这个创新不仅提升了产品性能，也为光学器件的微纳制造带来了更高的可调性和精度。
创新的高折射率双光子光刻胶在复杂微纳结构、微透镜、光子晶体等诸多基于双光子直写的光学器件的微纳制造中得到广泛应用。这一胶料不仅在科研领域具有革命性意义，更将推动现有光刻技术的发展，拓展了光学器件的应用范围。
