近日，企查查数据披露，大立科技成功获得一项颇具影响力的发明专利授权，专利名为“一种制冷型中波红外光学系统”(专利申请号：CN202111235307.6)，授权日期为2024年2月9日。这标志着大立科技在技术创新领域再次取得显著突破，为公司未来的发展奠定了坚实基础。
该发明公开了一种制冷型中波红外光学系统，其中包括第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜、第五透镜、第六透镜、红外窗口和红外滤光片。这些光学元件按照从物方到像方的顺序依次设置，通过精妙的设计，光束从物方依次经过各透镜、红外窗口和红外滤光片后在像面上成像。
这一专利采用了光学被动式无热化设计，成功实现了消热差的目的。这意味着，大立科技的光学系统在各种环境条件下都能表现出色，具备强大的环境适应性。此项创新将目标辐射的红外线转变为清晰的图像或视频，实现了全天候实时对目标的高效观测，同时克服了可见光摄像技术在恶劣环境下的缺陷。
今年以来，大立科技不仅获得了这一项重要的专利授权，还取得了其他3项专利授权，总数较去年同期增加了惊人的300%。这充分展示了公司在技术创新领域的持续努力和卓越成果。
结合公司2023年中报财务数据，显示大立科技在研发方面的投入为7790.17万元，虽然相比去年同期减少了5.76%，但这并未影响到公司在专利创新方面的高效运作。相反，这些数字反映出公司在精细管理下依然保持着良好的创新活力。
大立科技凭借在中波红外光学系统领域的专利创新，正逐渐奠定在行业中的领先地位。未来，随着技术的不断演进和市场需求的不断增长，大立科技将继续致力于推动科技创新，为社会提供更先进、更可靠的解决方案。
