在光学领域的不懈创新中，清华大学于2023年6月成功申请了一项名为"一种光学系统的元件公差分析及品质评价方法、装置"的专利(公开号：CN117433749A)。这一创新性专利涉及光学系统的元件公差分析和品质评价方法，为提高光学元件的面形精度和成像质量提供了新的途径。
光学系统的元件公差分析方法首先确定待分析光学元件的光学曲面对应的波像差容限。这一步骤为后续分析提供了基础参数，确保分析的准确性和实用性。
根据波像差容限，确定包括待分析光学元件的光学曲面上不同点的面形公差，得到曲面的局域面形公差分布。这一步骤使得能够对光学曲面的局域分布特性进行有效分析，为面形精度提升提供了科学依据。
品质评价方法首先确定待评价光学元件的光学曲面的品质评价函数。这一函数是对成像质量的综合评价，为品质评价提供了有力的工具。
根据品质评价函数，确定待评价光学元件进行品质评价对应的品质评价函数值。这一步骤使得基于成像质量对光学系统中的待分析光学元件进行有效评价成为可能。
该专利实施例的创新之处在于能够实现对光学曲面具有局域分布特性的待分析光学元件的面形精度进行有效分析。同时，基于成像质量的品质评价方法使得光学系统中的光学元件品质评价更为科学和准确。
这一创新性专利有望在光学领域引起广泛关注，为提高光学元件的制造和应用水平提供新的方法和思路。未来的应用展望将在光学系统的元件设计和评价方面迎来更多可能性。
