根据专利摘要,该申请披露了一种透光元件及其制备方法,专注于光学元件技术领域。制备方法包括以下步骤:
1.提供基板;
2.在基板上形成光学薄膜组件,其中光学薄膜组件的表面为第一氧化硅层;
3.采用刻蚀气体刻蚀第一氧化硅层的表面,并与第一氧化硅层反应生成硬质层,其中硬质层表面的粗糙度Rq≤2nm;
4.在硬质层上形成耐磨层。
该申请所披露的透光元件及其制备方法具有突出的特点,能够在光学膜层较厚时显著提高透光元件的耐磨性。这项技术突破为光学元件领域带来了全新的视野,为行业发展开辟了更广阔的可能性。
这一专利申请的公开为光学领域注入了新的活力,也标志着浙江水晶光电科技股份有限公司在光学技术创新上的持续努力。随着这项创新技术的不断完善与应用,相信将为光学行业带来更多实用性、耐用性的透光元件,推动行业向前迈进。