佳能新技术可无光刻机制造先进芯片

　　佳能公司的最新举措，推出了FPA-1200NZ2C纳米压印设备，这一动作不仅为小型半导体制造商开辟了新的制程道路，也在半导体制造领域引发了巨大的关注。佳能首席执行官御手洗富士夫指出，这项纳米压印技术将改变先进芯片制造的现状，不再局限于少数大型厂商。

　　与传统的光学图像投影原理不同，纳米压印技术类似于印刷工艺，能够直接在特定位置形成复杂的2D或3D电路图。在当前市场，5nm制程的先进半导体设备主要由ASML的EUV光刻机所掌控，而这类设备每台售价高达1.5亿美元。

　　然而，随着更高级别(2nm及以下)制程所需EUV光刻机的价格飙升，市场面临着供应单一、成本高昂的困境。佳能的纳米压印技术为小型企业提供了一种替代方案，不必依赖昂贵的EUV光刻机，便能生产最小5nm制程节点逻辑半导体。佳能半导体设备业务部长岩本和德更是表示，通过改进光罩，纳米压印技术甚至可以适用于生产2nm先进制程的芯片。

　　佳能的FPA-1200NZ2C纳米压印设备为小型半导体制造商提供了更为可行和经济的选择，开启了生产先进芯片的全新篇章。这一技术的引入或许将在半导体制造领域带来一股新的变革潮流。