最新公告显示,京东方科技集团股份有限公司提出了一项名为“制作柔性光栅的方法、柔性光栅和光学器件”的专利申请,编号为CN117289381A,申请日期为2023年9月。该项专利创新性地提供了柔性光栅制作方法和光学器件。
该方法涵盖了多个步骤:提供第一和第二刚性基板;在第一刚性基板表面涂覆第一可解离层,并形成第一柔性衬底;将第一柔性衬底和第二刚性基板对盒设置,形成光栅本体;对第一可解离层进行解离处理,剥离掉第一可解离层和第一刚性基板,最终获得柔性光栅。这一创新性方法为后期柔性光栅与其他器件的整合提供了更大的灵活性。
所得柔性光栅不受光栅衬底光学特性和厚度影响,为光学器件的特性和体积提供了更多自由度。这意味着在光学器件设计中不再受到常规因素的限制,为光学器件的灵活性和性能提供了更多可能性。
柔性光栅技术的提出将为光学器件领域带来新的发展方向。这项技术在光学器件整合方面具有前瞻性,为光学器件设计和应用提供更多创新空间。未来,其应用可能涵盖多个领域,包括科学研究、医疗设备、通信技术等。