上海微电子“投影物镜光学系统及光刻机”专利公开

　　上海微电子装备(集团)股份有限公司公开了最新的光刻机专利，名为“投影物镜光学系统及光刻机”。该专利设计包含一系列透镜组，通过对称结构和正光焦度的透镜，可提高成像质量，扩大曝光系统的视场尺寸，从而提高生产效率。

　　专利摘要展示了沿光轴方向的透镜组排列，包括第一至第四透镜组，并强调了对称性在光学系统中的重要性。第三透镜组与第二透镜组关于光阑对称，第四透镜组与第一透镜组关于光阑对称，构成了创新的对称结构。

　　这一设计不仅提高成像质量，还为曝光系统带来更大的视场尺寸，从而在保证质量的前提下提升了生产效率。这一专利的发布意味着上海微电子装备在光刻机领域迈出了重要一步，为未来光学系统设计和生产工艺带来了新的可能性。

　　上海电气控股集团有限公司持有该公司42.3%的股份，而张江高科全资子公司上海张江浩成创业投资有限公司则持有14.21%股份。这些股东构成了公司的主要股权结构，展现了上海微电子装备集团的资本背景和支持体系。