国家知识产权局披露了合肥晶合集成电路股份有限公司的“光学邻近修正方法、系统、计算机设备及介质”专利申请。这项专利涉及了一种光学邻近修正方法，通过获取具有阶梯线的初始版图图形，其中阶梯线包括连接的第一边、第二边和第三边，在初始版图图形外围形成一系列评价点，其中至少一组为阶梯状评价点。利用这些评价点对初始版图图形进行光学邻近修正，获得收敛度在预设范围内的目标版图图形。
这一创新方法主要针对形状特殊或较复杂的图形设计，提供更精确的修正，提高了修正准确率，同时也增强了修正效率，减轻了后续检查校正的压力，以及研发工作的量化。
合肥晶合集成电路的这一创新技术为图形设计领域带来了革命性的变化。其方法在设计中的应用为复杂形状的图形提供了更加准确的修正手段，优化了设计流程，降低了后续校正的复杂性，为电路设计和相关领域的发展开辟了新的道路。
这一光学邻近修正方法的专利申请标志着设计技术的进步，它对于图形设计、计算机设备等领域的应用具有重要意义。其精确度和效率提升了图形设计和修正的过程，为设计师提供了更为高效、准确的设计工具和方法。
合肥晶合集成电路的这一专利申请为光学邻近修正方法的创新提供了新的思路。其针对特殊形状设计的修正方式，为设计流程带来了更高的精确度和效率，为行业带来了新的发展机遇。
