为MEMS、纳米技术和半导体市场提供晶圆键合和光刻设备的领先供应商EV Group和奥地利领先的电子系统研究中心Silicon Austria Labs宣布，SAL已在其MicroFab接收并安装了多个EVG光刻和光刻胶加工系统位于奥地利菲拉赫的研发洁净室设施。这些装置是两家公司加强合作的一部分，旨在加速开发和部署用于异构集成应用的先进光学技术，包括用于微型相机和微镜的晶圆级光学器件、衍射光学器件以及用于实现自动驾驶和汽车照明的汽车光学器件。
新安装的EVG系统包括LITHOSCALE无掩模曝光系统、EVG7300自动化SmartNIL纳米压印和晶圆级光学系统，以及多个互补的光刻胶处理系统。这些系统加入了SAL现有的多个EVG键合、掩模对准和光刻系统，包括首次安装下一代200毫米版本的EVG150自动光刻胶处理系统，与上一代平台相比，该系统提供了更高的吞吐量、更高的灵活性和更小的工具占用空间。
此外，SAL一直与EVG总部的技术开发和应用工程团队密切合作，包括NILPhotonics能力中心，以利用EVG的设备和工艺知识，开发可转移和可扩展到大批量生产的工艺。
Silicon Austria Labs微系统研究部负责人Mohssen Moridi博士表示：“我们最近沉浸在一系列尖端研发项目中，涉及超光学、集成光子学和MEMS，需要使用先进的光刻和键合工具。通过与EVG的宝贵合作，我们获得了具有卓越可靠性和精确性的工具，这对于成功的研发工作至关重要。值得注意的是，EVG7300 SmartNIL系统已成为一种关键工具，能够为新兴光子学和MEMS器件大规模生产纳米结构。其应用延伸到智能照明系统、AR/VR、汽车光学、电信和量子技术等多个领域。
SAL是首批获得新EVG7300系统的客户之一，该系统是EVG最先进的解决方案，将多种基于UV的工艺能力结合在一起，如纳米压印光刻、镜片成型和镜片堆叠。该EVG7300是专门为满足各种新兴应用的高级研发和生产需求而开发的，涉及微米和纳米图案以及功能层堆叠。
EVG革命性的LITHOSCALE无掩模曝光系统满足了需要高度灵活性或产品变化的市场和应用的光刻需求。它通过结合强大的数字处理能力、高结构化分辨率和吞吐量可扩展性来解决传统瓶颈。它非常适合快速原型设计，提供快速的周转和研发周期时间。
EV Group 公司技术总监 Thomas Glinsner 表示：“Silicon Austria Labs 是光学小型化和异构集成领域的领先研究中心，也是 EV Group 的战略合作伙伴。我们先进的光刻和光刻胶加工系统的最新出货和安装进一步加强了我们的合作关系，并支持上航开发未来关键技术并将我们领先的解决方案应用于实际工业应用的能力。
