光迅科技申请一种提升激光器光栅形貌一致性的制备方法及其外延片专利

随着激光技术的广泛应用，激光器光栅的形貌一致性对其性能至关重要。近日，武汉光迅科技股份有限公司成功申请了一项名为“一种提升激光器光栅形貌一致性的制备方法及其外延片”的专利(公开号：CN117673895A)，申请日期为2022年8月。这一创新方法为激光器光栅形貌的提升提供了新的途径。

专利摘要中提到了在初始外延片结构材料表面生长一层SiO。这一步骤的引入为激光器光栅的制备奠定了基础，优化了外延片的结构，为形貌一致性的提升提供了关键支持。

通过在初始外延片结构材料表面生长一层SiO，实现对外延片结构的初步优化。SiO的引入有助于提升外延片表面的平整度和稳定性。

专利方法的核心在于通过SiO的生长层，进一步提升激光器光栅的形貌一致性。这一关键步骤对激光器的性能和稳定性具有重要影响，为行业带来了创新的可能性。

光栅形貌一致性的提升将直接影响激光器的性能。这项专利技术的应用有望为激光器行业带来性能的全面提升，推动激光技术在各领域的更广泛应用。

优化的制备方法将有助于提高激光器光栅的形貌一致性，同时降低制备成本。这对于激光器制造商而言，是一个积极的发展方向。