液体脉冲激光烧蚀是一种可靠且通用的技术，用于在溶液中生产金属纳米颗粒。其优点包括不含还原剂、操作简单、纯度高，无需纯化步骤，以及环境加工条件，使其成为传统金属 NP 制备方法的首选。
PLAL在科学和工业研究领域的广泛采用证明了其实用性。然而，传统激光源的尺寸和维护成本给实验室带来了重大挑战，尤其是那些不专门从事激光科学的实验室。
认识到这些障碍，大阪大学的樱井英弘教授、矢山由美教授及其团队将注意力转向了微芯片激光系统。MCL 由分子科学研究所的 Taira 小组开发，是一种紧凑、低功耗的巨型脉冲激光系统，腔体长度不到 10 mm，非常适合标准有机合成实验室。
尽管MCL具有尺寸优势，但其规格对金靶PLAL的适用性尚不清楚。研究团队旨在了解仪器规格的差异如何影响金PLAL的结果，目的是进一步促进台式合成和NPs在催化目的的直接应用。
在发布在《工业化学与材料》杂志上的研究中，该团队利用MCL对金的PLAL进行研究，重点关注小激光脉冲能量、短脉冲持续时间和低重复频率对烧蚀效率的影响。结果表明，尽管与传统的高功率激光器相比，MCL的脉冲能量要小得多，但表现出相对较高的烧蚀效率。
“我们的研究为使用紧凑型MCL系统制备Au NPs提供了新的见解。重要的是，它为直接使用MCL制备的高反应性NP在标准合成化学实验室中开发新的催化反应开辟了途径，“樱井说。
研究团队包括来自大阪大学的 Barana Sandakelum Hettiarachchi、Yusuke Takaoka、Yuta Uetake、Yumi Yakiyama 和 Mihoko Maruyama、Yusuke Mori、Hiroshi Y. Yoshikawa 和 Hidehiro Sakurai;以及来自分子科学研究所的 Hwan Hong Lim 和 Takunori Taira。
