扬帆新材申请双光子光刻胶专利 通过低能量连续405nm激光进行减材加工

浙江扬帆新材料股份有限公司近日申请了一项备受瞩目的专利，名为“一种可二次雕刻的双光子光刻胶及其制备方法、应用”，公开号CN117742074A，申请日期为2023年12月。这一创新性方法将为光刻技术带来前所未有的突破。

专利摘要显示，这一发明涉及可二次雕刻的双光子光刻胶及其制备方法、应用，属于高分子化学材料技术领域。

胶料组成：所提供的双光子光刻胶包括多种成分，如二硫键丙烯酸酯、活性交联剂、长波长双光子引发剂、单光子光碱剂等。

加工方法：利用首次飞秒激光加工实现增材制造，然后通过低能量连续405nm激光进行减材加工，实现二次雕刻。在连续激光作用下，单光子光碱剂分解并释放碱性物质，去质子化二硫苏糖醇，还原打开二硫键丙烯酸酯中的二硫键，从而将已交联固化的光刻胶分解，并在显影时去除，实现二次雕刻的目的。

环保特性：该胶料可在碱性水溶液中快速、简易地去除，绿色环保，去胶率可达100%。

这项技术的突出之处在于，通过双光子光刻胶的设计，实现了可重复加工的功能，为微纳加工提供了更大的灵活性和可塑性。该技术在微电子器件制造、生物医学领域等方面具有巨大的应用潜力。