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天合光能申请太阳能电池专利 减少激光辅助烧结对硅基底层造成的伤害

2024-03-11 10:13:30     

近日,天合光能股份有限公司成功申请了一项颇具前瞻性的太阳能电池技术专利,名为"太阳能电池及其制备方法、光伏组件和光伏系统",公开号CN117673203A,申请日期为2023年12月。这一创新技术旨在通过改进制备方法,减少激光辅助烧结对硅基底层造成的伤害,从而全面提高太阳能电池的性能。

专利摘要显示,该技术的独特之处在于太阳能电池的制备方法。太阳能电池分为受光区域和非受光区域,其中硅基底层是关键组成部分。在非受光区域的第一侧设置有第一电极图案,该图案至少采用激光辐照工艺进行制备。为减小激光辅助烧结对硅基底层的伤害,该方法在激光辐照工艺之前,先在硅基底层第一侧形成第一激光遮挡层。

第一激光遮挡层设置在第一区域,即从第一电极图案的边沿向远离图案的方向延伸的受光区域。该激光遮挡层的作用在于遮挡激光照射到受光区域中的至少第一区域,从而降低激光对非受光区域的损伤,有效提升电池的整体性能。

这一太阳能电池技术的创新将为光伏产业注入新的活力。通过降低激光辅助烧结的损伤,太阳能电池在制备过程中不仅能够更好地保持其性能,还有望在光伏系统中取得更出色的发电效果。

天合光能股份有限公司通过这一专利技术的成功申请,彰显了在太阳能电池领域的领先地位。未来,这一创新技术有望成为太阳能电池制造的行业标准,推动整个太阳能产业向更为高效、绿色的方向发展。

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