波长光电获得发明专利授权：“一种三波段激光增透膜及其制备方法”

据企查查数据显示，波长光电最近获得了一项令人瞩目的发明专利授权。这项专利名为“一种三波段激光增透膜及其制备方法”，专利申请号为CN201910297056.0，授权日期为2024年1月5日。

这一专利涉及一种三波段激光增透膜，结构包括基底层、复合层和MgF2层。复合层由交替沉积的YF3层和ZnSe层构成，而基底层与YF3层相接，MgF2层与ZnSe层相接。此特殊设计使得在650nm、1570nm和10.6μm波段的单面反射率均能满足多波长激光加工设备光学系统的使用要求。

该激光增透膜不仅具备优良的光学性能，同时具有强大的膜层附着力和耐摩擦性，出色的耐水性和耐温性，融合了卓越的光谱性能与机械稳定性。此外，其制备过程简单易操作、易控制，具备出色的制备重复性。

这是波长光电今年以来获得的第二项专利授权。结合公司2023年中报财务数据，公司在研发领域投入了946万元，同比增长7.04%。这一专利授权不仅是技术上的巨大突破，也为公司未来的创新发展提供了坚实基础。

这项专利的授权为波长光电的研发能力和创新实力再次得到了肯定，为公司在激光领域的技术竞争力注入了新的活力。