光刻机是制作高精度掩模版的关键设备。使用极细的激光光束，在极其精密自动控制系统控制下于掩模版基材上绘制出高精密线路图形。
激光直写是利用强度可变的激光束对基片表面的抗蚀材料(光刻胶)实施变剂量曝光，显影后在抗蚀层表面形成所要求的浮雕轮廓。激光直写光刻系统的基本工作原理是由计算机控制高精度激光束扫描，在光刻胶上直接曝光写出所设计的任意图形，从而把设计图形直接转移到掩模上。
激光直写光刻机是一种用于物理学、信息科学与系统科学、材料科学、机械工程领域的仪器，该设备是基于空间光调制器的直写光刻设备，用于制作光刻掩膜。
传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商提供，但是在研发环境中，掩膜板的设计通常需要经常改变。无掩膜光刻技术通过以软件设计电子掩膜板的方法，克服了这一问题。与通过物理掩膜板进行光照的传统工艺不同，激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关，在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。
2022年全球激光直写光刻设备市场规模达到了113.42百万美元，预计2029年将达到160.25百万美元，2023-2029年复合增长率(CAGR)为5.21%。
地区层面来看，中国市场在过去几年变化较快，2022年市场规模为17.32百万美元，约占全球的15.27%，预计未来几年增长较快，预计2029年将达到28.68百万美元，2023-2029年复合增长率(CAGR)为7.91%，届时全球占比将达到17.89%。
从产品类型及技术方面来看，2022年2D系统销量占据92.14%的比例，2022年销量为213台，预计2029年为328台。3D系统预计销量增速较快，3D系统2022年销量为18台，预计2029年为35台。市场规模上看，2022年2D系统全球市场规模为101.20百万美元，3D系统全球市场规模为12.22百万美元。价格上看，2022年2D系统销售均价为475千美元每台，3D系统销售均价为673千美元每台，2022年激光直写光刻设备均价为491千美元每台。预计未来激光直写光刻设备价格将呈现下降趋势，预计2029年2D系统单价为423千美元每台，3D系统单价为621千美元每台，两种类型激光直写光刻设备价格均下降，但3D系统价格下降幅度相较之下略小。
从产品市场应用情况来看，用于掩膜版制造的激光直写光刻设备2022年销售收入为35.25百万美元，占比最高，其次是IC封装、FPD制造、微机电和其他应用，分别为28.41 、25.84 、6.99 和16.93百万美元，预计2029年这些应用端销售收入分别为39.89 、35.61 、9.84 和24.45百万美元，其中微机电和其他应用(如生物医学、微制造等)增长较快，年复合增长率(CAGR)分别为5.53%和5.49%。
目前全球主要厂商包括Heidelberg Instruments、Raith (4PICO Litho)、Mycronic、Ushio Inc.和SCREEN Holdings等，2022年前五大厂商销售收入为65.12百万美元，份额占比达到57.41%，预计未来几年行业竞争将更加激烈，尤其在中国市场。总体来看，该行业属于典型的技术密集型行业，资本投入大、研发周期长、人才稀缺都是其典型特点。从行业发展来说，激光直写光刻设备当前趋势较好，且替代掩膜版光刻设备优势大，市场空间较大。在国家层面而言，欧洲、日本、中国等是主要的生产国。从中国激光直写光刻设备厂商发展而言，技术积累、人才储备、客户资源积累、销售渠道拓展和自身宣传等都是企业发展重要的影响因素，此外，企业也需要对上下游市场现状有充分认识，如下游半导体、PCB等行业景气度变化等因素，将是影响企业收入和利润的重要因素。
