飞秒激光直写技术刻写弱反射光纤光栅阵列 具有操作简单，无须掩模板等优点

　　全同弱反射光纤光栅阵列

　　全同弱反射光纤阵列在分布式传感领域有很重要的运用，不仅可以极大提升FBG解调系统（DAS、DTS、OFDR等）的复用容量和传感距离，而且可以进一步空间分辨率和测量精度。结合飞秒光栅的高温特性，可以很好运用到油井勘探、石油化工、周界安防、桥梁大坝、航空航天等领域。

　　如图2，刻写的全同弱反射光栅阵列参数如下：中心波长为1550nm，光栅长度为1mm，光栅间距为5mm，光栅数量为50个，背向反射信号强度提升35dB，刻写结果相对稳定。

　　全同弱反射光纤光栅OFDR测试谱

　　上海津镭光电科技有限公司开发的光纤光栅加工设备，采用飞秒激光直写技术，刻写的光栅阵列具有操作简单，无须掩模板，无须剥离涂覆层，无须载氢和二次涂覆等优点，可以很大程度保持光纤原有的抗拉强度，所刻写的单模光纤光栅最高可耐1000℃高温,长期稳定性好的特点。