武汉锐科光纤激光技术股份有限公司获得了一项名为“抗反射材料制造方法及装置”的专利，授权公告号为CN113732512B，申请日期为2021年9月。这一专利的问世引发了人们对其在抗反射材料领域的关注。
该专利涉及一种抗反射材料的制造方法及装置。工艺包括对一表面粗糙度低于0.1的待处理材料进行两阶段的激光加工处理。首先，在第一阶段形成周期性微米结构，随后在第二阶段形成周期性微纳结构。这一工艺可以有效吸收宽光谱波段的光线，并显著降低材料表面的反射率，从而增强材料的抗反射性。
这一创新工艺不仅提升了材料的抗反射性能，还具有制造工艺简单、环境友好的特点。通过激光加工，材料表面结构的微米和微纳级别调控，为光线的吸收提供了更大的表面积，从而降低了反射率，同时保持了材料的结构完整性。
武汉锐科光纤激光此次专利的取得可能为光学领域带来新的创新。这种抗反射材料技术不仅适用于光学器件，还有望在太阳能电池板、光学镜头等领域发挥重要作用。该技术的发展将有助于提升各个领域的能源利用效率和性能表现。
武汉锐科光纤激光技术公司在抗反射材料制造方面的专利突破，将推动该领域的创新发展。这一技术的应用前景广泛，有望为多个领域带来技术革新和性能提升。
