BICO旗下公司Nanoscribe推出了一种新颖的3D微纳加工技术——双光子灰度光刻。该技术将高分辨率的双光子聚合与独特的专利体素调谐工艺相结合，以显着减少打印层数——使 2GL 成为最快的基于 2PP 的 3D 打印技术，具有无与伦比的形状精度和卓越的打印质量。它为新的应用铺平了道路，例如在更短的打印时间内制造出质量更高、质量更高的细丝微光学系统。3D 灰度打印现已作为 Quantum X align 的一项新功能提供。
Nanoscribe的Quantum X平台采用获得专利的双光子灰度光刻技术，用于光学级2D和2.5D微结构的增材制造，是工业制造和微光学掌握的领先解决方案。现在，Nanoscribe将体素调谐技术带入了第三维度，引入了2GL的3D打印技术，作为Quantum X align的对齐双光子光刻功能的重要补充。
精度和准确性
打印过程依赖于激光功率的实时动态调制，同时以最高速度进行扫描。这导致聚合体素的精确尺寸调整，以“完美”匹配任何 3D 形状的轮廓。2GL 的 3D 打印保证了完美的光学级表面和最精细的亚微米特征，没有任何切片步骤或形状变形，只是任何 3D 打印设计的真实形状。
吞吐量提高 60 倍
2GL的3D打印是市场上最快的基于2PP的微纳加工技术之一。其动态体素调整需要的打印层数要少得多，才能获得光学级、光滑和纳米结构表面的打印效果。这意味着目前任何可用的基于 2PP 的 3D 打印机都无法达到的制造速度——在满足苛刻的打印质量要求时，其吞吐量是替代 2 光子光刻系统的 10 到 60 倍。
光子应用
2GL的3D打印显著推动了微光学制造和光子学封装的发展。Nanoscribe的Quantum X对齐与对齐的2光子光刻A2PL配备了这种新的打印技术，并由nanoPrintX高级对准器软件提供支持。
Quantum X align 经过优化，可打印具有最高贴装精度的微光学元件，并可在光纤和光子芯片上自动对准。2GL 的 3D 打印技术将制造质量和速度提升到一个全新的水平，为推进自由空间微光学耦合 的工业化铺平了道路，它是一种用于光子封装和集成的高度强大和高效的光耦合解决方案。
