激光网
当前位置: 首页 > 业界 > 正文

报告称Samsung Foundry在3nm芯片工艺上的良率已达到了60%,已超过台积电的55%

2023-07-18 10:25:22  来源:IT之家    

  根据最新报告,Samsung Foundry 在 3nm 工艺上的良率达到了 60%,高于台积电(55%)。

  

 

  报道称三星大力发展 3nm,不断提升生产工艺、提高生产良率,目前已经将良率提升到 60%,该媒体认为三星会在超先进芯片制造技术上胜过台积电。

  

 

  报告中也指出三星目前在 4nm 工艺方面良率为 75%,和台积电(80%)存在差距,不过通过发力 3nm,有望在未来超过台积电。

  报告中还指出由于台积电的大部分订单都被苹果预订,英伟达、高通等公司都对三星的第二代 3nm(SF3)工艺感兴趣。

  

 

  此前报道,Samsung Foundry 在 SFF 2023 上公布的最新工艺技术路线图,该公司计划在 2025 年推出 2 纳米级的 SF2 工艺,2027 年推出 1.4 纳米级的 SF1.4 工艺。与此同时,该公司还公布了 SF2 工艺的一些特性。

免责声明: 激光网遵守行业规则,本站所转载的稿件都标注作者和来源。 激光网原创文章,请转载时务必注明文章作者和来源“激光网”, 不尊重本站原创的行为将受到激光网的追责,转载稿件或作者投稿可能会经编辑修改或者补充, 如有异议可投诉至:Email:133 467 34 45@qq.com