消息称ASML将向中国推出“特供版”DUV光刻机 基于Twinscan NXT: 1980Di光刻系统改造

　　根据报道，ASML 试图规避荷兰新销售许可禁令，面向中国市场推出特别版 DUV 光刻机。

　　消息称如果该项目继续推进，中芯国际、华虹等中国半导体企业可以继续使用荷兰的设备生产 28 纳米及更成熟工艺的芯片。

　　图源 ASML

　　消息称该特别版 DUV 光刻机基于 Twinscan NXT: 1980Di 光刻系统改造，而 1980Di 是 10 年前推出的旧型号，不在本次官方禁令范围内。

　　1980Di 是 ASML 现有效率比较低的光刻机，支持 NA 1.35 光学器件、分辨率可以达到 <38 nm，理论上可以支持 7nm 工艺。

　　大多数晶圆厂使用 1980Di 光刻机，主要生产 14nm 及以上工艺芯片，很少使用其生产 7nm 芯片。

　　在此附上 DigiTimes 报道链接(需付费阅读)，感兴趣的用户可以点击阅读。